Günlük hayat›m›zda maddenin üç farkl›
haliyle
hafl›r nefliriz. Hepimizin bildi¤i bu haller; kat›, s›v› ve
gaz. Ancak maddenin dördüncü bir halinin de varol-
du¤u 1879’da bir ‹ngiliz fizikçisi olan William Cro-
okes taraf›ndan ortaya at›lm›fl ve 1929 y›l›nda Ame-
rikal› bilim adam› Dr. Irwing Langmuir taraf›ndan
bu hal “plazma” olarak adland›r›lm›fl. “Plazma” te-
rimi, iyonlaflm›fl gaz halini ifade ediyor. ‹yonlaflm›fl
durumdaki gaz, pozitif yüklü molekül veya atomlar
(iyonlar) ve negatif yüklü elektronlar› içermekte.
Maddenin plazma hali çok yüksek s›cakl›klarda
veya güçlü elektrik ve/veya manyetik alanlarla olufl-
turulabiliyor. 10.000 Kelvin’in üzerindeki s›cakl›k-
larda tüm molekül ve atomlar iyon haline geçiyorlar.
Günefl ve di¤er y›ld›zlar 5000-70.000 Kelvin yada
daha yüksek s›cakl›klara sahip olduklar›ndan plaz-
ma özelli¤i tafl›maktalar. Ço¤umuz günefl ve geze-
genleri aras›ndaki alan›n enerjiden ve maddeden
yoksun bir boflluk oldu¤unu düflünürüz. Ancak, gü-
neflin yayd›¤› plazma oldukça h›zl› bir flekilde her
yöne tafl›narak bu bofllu¤u doldurmufltur.
Plazma, serbest olarak hareket eden elektronlar
ve iyonlardan olufltu¤una göre, bir maddeyi plazma
haline geçirebilmek için atomlardan elektronlar› ko-
parabilecek bir enerji gerekmekte. Bu enerji farkl›
kaynaklardan elde edilebiliyor. Is›, elektrik ve ›fl›k
(ultraviyole ›fl›k veya lazerden görünür ›fl›k) gibi. Do-
lay›s›yla iki tür plazmadan söz edebiliriz. S›cak plaz-
ma ve so¤uk plazma. Günefl sistemi ve di¤er gök ci-
simleri s›cak plazmaya örnek teflkil etmekte. So¤uk
plazma ise laboratuvar koflullar›nda elektriksel bo-
flal›m veya ›fl›k kaynaklar›yla oluflturulabiliyor. Plaz-
ma, elektriksel ve manyetik alanda h›zland›r›labilir,
böylelikle kontrollü bir biçimde
teknolojik uygula-
malarda kullan›labilir.
