• Ideal sirt va uning tuzilishi .
  • M t normuradov, B. E umirzaqov, A. Q tashatov nanotexnologiya asoslari




    Download 4,13 Mb.
    Pdf ko'rish
    bet12/124
    Sana31.05.2024
    Hajmi4,13 Mb.
    #258278
    1   ...   8   9   10   11   12   13   14   15   ...   124
    Bog'liq
    NANOTEXNOLOGIYA ASOSLARI (UMUMIY) 22.06.2020 (1)

    relaksatsiya 
    deyiladi. Bu 
    faqatgina sirtdan 4-5 qatlamgacha cho’zilishi mumkin. 
    b)
    Atomlar orasidagi masofaning o’zgarishi 
    rekonstruksiya
    deyiladi. Bu 
    faqatgina sirt qatlamida vujudga keladi. 
    2.1-rasm. d
    1
     va d
    2
     atomlar orasidagi masofa, S
    1
     va S
    2
     qatlamlar orasidagi masofa 
    Sirtdagi atomlar sonini hisoblash quyidagicha bo’ladi: 
    Ikkita atom orasidagi o’rtacha masofa 2,5 Å= 2.5∙10
    -8 
    sm 
    2.5∙10
    -8 
    sm
    – 1 ta
    1 sm – x ta 
    X=
    10
    5
    .
    2
    1
    1
    8



    =4∙ 10

    ta 
    Ideal sirt va uning tuzilishi

    Yarimo’tkazgichli materiallar asosida elektron 
    qurilmalar ishlab chiqarish 80-yillardan so’ng juda tez sur’atda rivojlandi. Eng 
    oddiy yarimo’tkazgichli asbobga diod va tranzistorlar kiradi. Ular asosan, fizik 
    jihatdan n-p , n-p-n yarimo’tkazgichga o’tishga asosan ishlaydi. 
    So’nggi yillarda har xil materiallar ustida turli xil fizik usullardan (MNE, 
    QFE, GFE) foydalanib, har xil turdagi elektron asboblar yaratilmoqda. Eng
    avvalo, turli xil materiallar ustida mikroqalinlikka ega bo’lgan n-tip va uning 
    d
    2
    d
    1
    S
    2
    S
    1
    d
    1
    >d
    2
    S
    1
    >S
    2
    2,5Å 
    1 sm 


    25 
    ustida mikroqalinlikdagi p-tipli yarimo’tkazgichlar joylashtirilib, yarimo’tkazgichli 
    diodlar hosil qilinadi (2.2-rasm). Ularning chegaraviy qatlamlaridagi o’zaro ta’sir 
    kuchi hajmnikidan keskin farq qiladi. Chunki chegaradagi atomlarning turli tabiatli 
    ekanligidan ular orasidagi kristall panjaralar o’lchamlari, atomlar orasidagi ta’sir 
    kuchi keskin hajmnikidan farq qiladi. Bu soha shu chegarada 4-5 qatlamni tashkil 
    qiladi.
    So’nggi yillarda yarimo’tkazgichli materiallar sirtda nanoqatlamli turli xil 
    plyonkalarni olish va ular asosida elektron asboblar ishlab chiqarish 
    rivojlanmoqda. Eng oddiy usul bu molekulyar nurli epitaksiya usuli hisoblanadi. 
    Undan tashqari yarimo’tkazgichlar ustiga boshqa kimyoviy element atomlarini ion 
    implantatsiya usulida qattiq jism sirtiga kiritish orqali boshqa strukturali 
    nanoqatlamlar olish mumkin. Eng asosiy olinayotgan nanoqaqtlamlarning qalinligi 
    kamida 25-30 nmga teng bo’lishi zarur. Agar bu o’lchamdan kichik bo’lsa, bu 
    olingan qatlamga asosan, materialning ta’siri kuzatiladi. Masalan: termoishlov 
    berilgan vaqtda asos atomlarning bir qismi diffuziya yoki agregatsiya hodisasiga 
    asosan olingan plyonkaning tarkibiga o’ta boshlaydi. Bu esa o’z navbatida asos 
    atomlari bilan yupqa plyonka atomlari orasidagi ta’sir kuchini o’zgartiradi. 
    Har qanday usulda olingan kristallar sirt qatlamlarining tuzilishi 
    hajmnikidan keskin farq qiladi. Bu farqlar atomlar orasidagi masofa, qatlamlari 
    orasidagi masofa va elektron, kristall strukturalari bir-biridan farqlidir.
     
    2.2-rasm. p- va n- tipli qatlamlarning ko’rinishi 
    Agar yuza qatlamda joylashgan atomlarning o’rni hajmda joylashgan 
    atomlar o’rni bilan ustma-ust tushsa, bunday sirtlar 

    Download 4,13 Mb.
    1   ...   8   9   10   11   12   13   14   15   ...   124




    Download 4,13 Mb.
    Pdf ko'rish

    Bosh sahifa
    Aloqalar

        Bosh sahifa



    M t normuradov, B. E umirzaqov, A. Q tashatov nanotexnologiya asoslari

    Download 4,13 Mb.
    Pdf ko'rish