|
Kontaktli fotolitografiya Reja. Fotolitografiya texnologiyasini o‘rganish 2
|
| bet | 3/5 | | Sana | 02.12.2023 | | Hajmi | 57.57 Kb. | | #109909 |
Bog'liq jamshidbek1 2020 (3), FAN DASTUR MKMT uzb, O‘zbekiston respublikasi oliy ta’lim, fan va innovalar vazirligi, Introduction to CLT, 5c3872cad320e, DOC Document, 11-mavzu, imtixon, jashs-article-p551, MULTI LEVEL PRACTICE TEST 3, 1-dars, Лабо ва Мерс хизмати, 7-Mavzu Oqova suvlarni tozalash usullari, Lecture Note 10FR markasi
|
FR turi
|
FR rangi
|
Ajratish qobiliyati chiziq/mm
|
ochiltiruvchiga chidamliligi
sek
|
FP-307
|
pozitiv
|
qizg‘ish
|
500
|
90
|
FP-330
|
pozitiv
|
qizg‘ish
|
400
|
60
|
FP-333
|
pozitiv
|
qizg‘ish
|
500
|
180
|
FP-334
|
pozitiv
|
jigarrang
|
400
|
600
|
FP-383
|
pozitiv
|
qizg‘ish
|
400
|
60
|
FP-RN-7-2
|
pozitiv
|
jigarrang
|
400
|
2400
|
FN-11
|
negativ
|
jigarrang
|
100
|
chidamli
|
FN-103
|
negativ
|
to‘qqizil
|
50
|
chidamli
|
FN-106
|
negativ
|
sariq
|
200
|
chidamli
|
FN-108
|
negativ
|
qizg‘ish
|
400
|
chidamli
|
Yarimo‘tkazgich asboblar va integral mikrosxemalar texnologiyasida fotorezistni qo‘llanilganida zaruriy e’tiborga olinadigan mezonlar yorug‘likka sezgirlik, ruxsat etilganlik imkoniyati, kislotabardoshlik va ishlov berishga qulaylik xisoblanadi.
Fotorezistlarning yorug‘lik sezuvchanligi. Istalgan fotorezistning yozug‘liksezuvchanligi eksponirlash va ko‘rintirish jarayonining funksiyasi xisoblanadi. Eksponirlash jarayonining asosiy talabi fotorezistning spektral sezgirligidir, bundagi qiymat yutilib qaytgan yorug‘lik energiyasi bilan aniqlanadi va bu yorug‘lik sezgir materialning xossalarini o‘lchash aniqligi uchun kerak bo‘ladi.
Fotorezistning spektral sezgirligi quyidagi formula orqali aniqlanadi:
Bu yerda YE- fotorezistning yorug‘lik nurlanganligi, Vt/m2; t-nurlanish vaqti, s; H=Et-ekspozitsiya qiymati, Bt*s*/m2.
Bundan ko‘rinib turibdiki, fotorezistlarning yorug‘lik sezgirligi yorug‘lik sezuvchan material qatlamining to‘liq yoritilishi bilan bog‘liq. Fotolitografiya jarayonida faqatgina yorug‘lik sezgir materialning to‘liq yoritilishi emas, balki yuqori sifatli fotorezist qatlamini , ya’ni tasvir relefini xosil qilish bu jarayonning asosiy maqsadi xisoblanadi.
Shuning uchun fotorezistlarning yorug‘lik sezuvchanlik xarakteristikalarini to‘liqroq tarzda ikkita jarayonni, ya’ni ekspozitsiya va ko‘rintirish jarayonlarini birgalikda ko‘rish orqali tushuntirish mumkin. Ko‘rintirish jarayoni fotorezistlarning yorug‘lik sezuvchanligiga to‘g‘ridan-to‘g‘ri ta’sir ko‘rsatadi, ya’ni xosil bo‘lish jarayonida ta’sir etuvchi bilan fotorezist plyonkasining eksponirlangan va eksponirlanmagan oblastlari o‘rtasida o‘zaro ximiyaviy ta’sirlashuv sodir bo‘ladi. Ko‘rintirish jarayoni fotorezist plyonkasida ma’lum tasvir relefini shakllantiradi va bu olingan tasvir relefi xosil qilingan ximoya plyonkasini sifatini aniqlab beradi.
Negativ fotorezistlarning yorug‘lik sezuvchanlik mezoni deganda taglik yuzasida eksponirlash va ko‘rintirish jarayonlari amalga oshirilgandan keyin fotorezist plyonkasining lokal polimerlangan uchastkalarini (tasvir relefini) xosil qilish tushuniladi.
Pozitiv fotorezistlarning yorug‘lik sezuvchanlik mezoni deganda butunlay yemirilish va taglik yuzasida eksponirlash va ko‘rintirish jarayonlari amalga oshirilgandan keyin fotorezist plyonkasining lokal uchastkalarini (tasvir relefini) yo‘qotish tushuniladi.
|
| |
