• 1.2. Epitaksial geterostrukturalarning xossasi va qo’llanilishi
  •  - rasm. Galliy arsenidi plastinkasida va




    Download 133,65 Kb.
    bet6/24
    Sana17.01.2024
    Hajmi133,65 Kb.
    #139533
    1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   24
    Bog'liq
    Soliyeva Muhlisa Ikrom qizi-fayllar.org

    1.1 - rasm. Galliy arsenidi plastinkasida va 
    𝐧
    +
    − 𝐧 tuzilmada 
    tayyorlangan planar va diskret meza diodlarning kristallari:
    I. Meza diodlar; II. Planar diodlar; a. n-GaAs; b.
    n
    +
    − n – GaAs.



    13
    1.2. Epitaksial geterostrukturalarning xossasi va qo’llanilishi 


    Grekcha epi (-ga) va taxis (-tartib) so’zlaridan hosil bo’lgan epitaksiya
    so’zi orqasida yupqa monokristal taglikda tartibli strukturali yupqa qatlamlarni
    boshqaruvli o’stirish tushuniladi. Albatta epitaksial qatlamlar kristal strukturasi
    taglik strukturasini hosil qiladi. Epitaksial qatlam va taglik tarkibi farq qilishi
    mumkin, biroq epitaksial o’sishning zaruriy sharti panjara doimiysi qiymatining
    yaqinligidir.
    Epitaksial strukturalar quyidagi xossalari bilan farqlanadi:
    1. Strukturaviy tuzilishi darajasi, nuqsonlarning va kirishmalarning yo’qligi
    bo’yicha epitaksial qatlamlar (jumladan, taglik materiali ham) hajmiy
    materiallardan ancha afzaldir.
    2. O’stirilayotgan qatlamlar kimyoviy tarkibi boshqarila oladigan tarzda
    o’zgarishi mumkin (pog’onali kabi, ham tekis). Bu esa oldindan berilgan xossali
    materiallar olish imkonini beradi. Texnologiya yana o’sish jarayonida
    to’g’ridan-to’g’ri boshqariluvchan legirlash imkonini beradi.
    3. Epitaksiya turli tarkibli navbatma-navbat o’stirish imkonini beradi,
    bunda atom-keskin chegaralar mavjudligidan qatlamlar qalinligi atom
    o’lchamlarigacha kamayishi mumkin. Shunday yo’l bilan o’stirilgan strukturalar
    (kvant o’ralar, yuqori panjaralar) hajmiy materiallarda bo’lmaydigan ulkan fizik
    xossalarga ega bo’ladi.
    Epitaksial qatlam sirti sifati taglikning dastlabki sirti sifatidan ancha
    afzaldir. Bu deyarli atomar yassi geterochegaralarning strukturasini yaratish
    imkonini beradi. Ushbu xususiyatlar tufayli, epitaksial geterostrukturalar
    quyidagi elektr va optik xossalarga ega:
    1. Epitaksial qatlamlarning yuqori strukturaviy tuzilishi erkin tashuvchilar
    sochilishini ancha kamayishiga va shuning bilan birga materialda elektr
    siljuvchanlikni ham kamayishiga olib keladi.
    2. Elektronlar, kovaklar va eksitonlar uchun tutqich bo’lgan nuqson va
    kirishmalar
    miqdorining
    o’ta
    kamligidan
    epitaksial
    strukturalar
    lyuminessensiyaning yuqori kvant chiqishi bilan farq qiladi, bu esa ular asosida



    14
    yaratilgan geterolazerlar va yorug’lik diodlari ish samaradorligini keskin


    oshiradi.
    3. Yupqa epitaksial qatlamlarning energetik strukturasi ko’p jihatdan bir
    tekis kvantlanish effekti bilan aniqlanib, bu qatlam qalinligini o’zgartira borib
    yo’naltirilgan holda ularning optik xarakteristikalarini o’zgartiradi.
    4. Yarimo’tkazgichli epitaksial geterostrukturalar tez elektr va optik
    dinamikasi bilan xarakterlanib, u yuqori tezlikli elektron va hisoblash
    qurilmalarini yaratish uchun o’ta muhimdir.
    Elektronikada epitaksial strukturalarni qo’llashga yuqori tezlikli maydon
    tranzistori misol bo’la oladi. Bunday tranzistorlarda tok epitaksial qatlam
    tekisligida oqadi va tranzistorning qayta ulanishi chegaraviy chastotasi tokning
    oqish tezligi bilan, ya`ni tashuvchilar siljuvchanligi bilan aniqlanadi. Yuqorida
    qayd etilganidek, zamonaviy epitaksial texnologiya juda past konsentratsiyali
    nuqsonga ega qatlamlar o’stirish imkonini berib, ular harakatlanuvchi
    tashuvchilarni socha oladi. Bunda sochuvchining asosiy rolini tashuvchilarni
    qatlamga o’tkazuvchi ligerlovchi kirishma o’ynay boshlaydi. Bunday sochilishni
    oldini olish uchun to’g’ridan-to’g’ri o’tkazuvchan qatlam emas, katta
    taqiqlovchi zona (baryer qatlam) bilan xarakterlanuvchi qo’shni qatlamlar
    ligerlanadi. Erkin tashuvchilar energiyasini yo’qotgan holda ligerlangan baryer
    qatlamdan kirishmaga ega bo’lmagan o’tkazuvchan qatlamga ketadi va unda
    katta tezlik bilan tarqaladi.
    Epitaksial geterostruktura asosida yaratilgan optik va optoelektron
    asboblarga misol yarimo’tkazgichli yorug’lik diodi va geterolazerdir. Yorug’lik
    diodi p-n o’tishdan iborat bo’lib, unda turli ishorali tashuvchilar fazoviy
    ajralganroq. P-n o’tish orqali tok o’tganida elektronlar va kovaklar bitta fazoviy
    sohada bo’ladilar va yorug’lik kvantini chiqarib rekombinatsiyalanishi mumkin.
    P-n o’tishni shakllantiruvchi epitaksial qatlamlarning yuqori samarali
    bo’lishlariga imkon beradi. Agar yorug’lik diodlari tomonlarida yassi parallel
    ko’zgular qilinsa, ya`ni rezistor yaratilsa, u holda asbob stimullangan nurlanish
    generatori – geterolazerga aylanadi.



    15


    Download 133,65 Kb.
    1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   24




    Download 133,65 Kb.

    Bosh sahifa
    Aloqalar

        Bosh sahifa



     - rasm. Galliy arsenidi plastinkasida va

    Download 133,65 Kb.