|
1-mustaqil ishi mavzu: Bipolyar tranzistorda yig‘ilgan elektron kalit sxemasini tadqiq etish
|
| bet | 4/10 | | Sana | 24.05.2024 | | Hajmi | 0,84 Mb. | | #251855 |
Bog'liq To‘ranov Dostonbek2-MUSTAQIL ISHI
Mavzu: IMSlarni tayyorlash texnologiyalari
Guruh: 030-22-guruh
Bajardi: To‘ranov Dostonbek
Tekshirdi: A.X. Abdullayev
Toshkent-2024
IMSlarni Tayyorlash Texnologiyalari
IMS (Integral Mikrosxemalar) zamonaviy elektron qurilmalar va tizimlarining asosi bo’lib, ularni ishlab chiqarish texnologiyalari elektronika sanoatining muhim yo’nalishi hisoblanadi. IMSlar yuqori zichlikdagi integratsiya, past quvvat iste’moli, yuqori tezlik va kichik o’lchamlarni ta’minlaydi. Ushbu maqolada IMSlarni tayyorlash texnologiyalari, ular uchun ishlatiladigan materiallar va usullar haqida batafsil ma’lumot beriladi.
I MSlarni tayyorlash bir nechta murakkab bosqichlarni o’z ichiga oladi. Bu bosqichlar quyidagi tartibda amalga oshiriladi:
1.1. Dastlabki Loyihalash
Dastlabki loyihalash bosqichi IMSning elektr sxemasi va funksional imkoniyatlarini aniqlashdan boshlanadi. Bu bosqichda:
Elektr Sxemasi Loyihalash: Elektron sxema va zanjirlarning dizayni.
Layout Dizayn: Fizikaviy joylashuv dizayni, ya’ni IMSning chip ichidagi komponentlarning joylashuvi.
1.2. Fotolitografiya
Fotolitografiya IMSlarni tayyorlashda muhim rol o’ynaydi. Ushbu jarayon quyidagi bosqichlarni o’z ichiga oladi:
Maska Tayyorlash: Fotomaskalar tayyorlanadi, bu maskalar IMSdagi naqshlarni yaratish uchun ishlatiladi.
Fotorezist Qo’llash: Yuzaga fotorezist modda qo’llanadi, bu modda yorug’likka sezgir va kerakli naqshlarni yaratishga yordam beradi.
Yorug’lik Tushirish: Fotomaskalar orqali yorug’lik tushiriladi, bu fotorezist qatlamini kerakli joylarda qattiqlashtiradi.
1.3. Etsing (Chizish)
Etsing jarayoni kerakli naqshlarni yarim o‘tkazgich plastinasiga (wafers) o’tkazish uchun ishlatiladi. Bu jarayon ikki xil bo’lishi mumkin:
|
| |
