IMS tayyorlashda fotolitografiya jarayonidan bir necha marta (
5÷7 marta)
foydalaniladi (negiz qatlamlar, emitterlar, omik kontaktlar hosil qilishda va x.z.).
Bunda har gal o‘ziga xos “rasm”li fotoshablonlar ishlatiladi.
Legirlash - yarimo‘tkazgich hajmiga kiritmalarni kiritish jarayoni. IMSlar
tayyorlashda legirlash sxemaning aktiv va passiv elementlarini hosil qilish hamda
zarur o‘tkazuvchanlikni ta’minlash uchun kerak. Diffuziya
yordamida legirlash
butun kristall yuzasi bo‘ylab yoki niqobdagi tirqishlar orqali ma’lum sohalarda
(lokal) amalga oshiriladi.
Ion legirlash yetarli energiyagacha tezlatilgan kiritma ionlarini niqobdagi
tirqishlar orqali kristalga kiritish bilan amalga oshiriladi. Ion legirlash universalligi
va oson amalga oshirilishi bilan xarakterlanadi. Ionlar tokini o‘zgartirib legirlovchi
kiritmalar
kontsentratsiyasini, energiyasini o‘zgartirib esa – legirlash chuqurligini
boshqarish mumkin.
Yemirish - yarimo‘tkazgich, uning sirtidagi oksidlar va boshqa birikmalarni
kimyoviy moddalar hamda ularning aralashmalari
yordamida eritib tozalash
jarayoni.
Yemirish yarimo‘tkazgich sirtini tozalash, oksid qatlamda “darcha”lar ochish
va turli ko‘rinishga ega bo‘lgan “chuqurchalar” hosil qilish uchun qo‘llaniladi.
Yarimo‘tkazgich sirtini tozalash va “darcha”lar hosil qilish uchun izotrop
yemirishdan
foydalaniladi, bunda yarimo‘tkazgich barcha kristallografik
yo‘nalishlar bo‘ylab bir xil tezlikda eritiladi.
